Numeryczna symulacja procesu depozycji cienkiej warstwy arsenku galu z fazy gazowej

Leszek Rudniak , Stanisław Wroński

Abstract

n/a
Author Leszek Rudniak (FCPE / DPKT)
Leszek Rudniak,,
- Department of Process Kinetics and Thermodynamics
, Stanisław Wroński (FCPE)
Stanisław Wroński,,
- Faculty of Chemical and Process Engineering
Other language title versionsNumerical simulation of chemical vapour deposition gallium arsenide
Journal seriesPrace Wydziału Inżynierii Chemicznej i Procesowej Politechniki Warszawskiej, [Prace Instytutu Inżynierii Chemicznej Politechniki Warszawskiej], ISSN 1234-4354
Issue year1997
VolXXIV
No1-2
Pages39-49
Publication size in sheets0.5
Languagepl polski
Score (nominal)0
Citation count*
Cite
Share Share

Get link to the record


* presented citation count is obtained through Internet information analysis and it is close to the number calculated by the Publish or Perish system.
Back
Confirmation
Are you sure?