Trawienie fotorezystu ArF 193 nm za pomocą wiązki rodników wodoru

Arkadiusz Malinowski , Andrzej Jakubowski , Lidia Łukasiak , Takuya Takeuchi , Kenji Ishikawa , Makoto Sekine , Masaru Hori

Abstract

W niniejszej pracy przedstawionowo nową technikę usuwania fotorezystu ArF 193 nm za pomocą wiązki rodników wodoru. Analiza powierzchni krzemu po usunięciu fotorezystu ArF 193 nm wykazuje znikomy wzrost chropowatości wywołanej działaniem rodników wodoru po usunięciu fotorezystu.
Author Arkadiusz Malinowski (FEIT / MO)
Arkadiusz Malinowski,,
- The Institute of Microelectronics and Optoelectronics
, Andrzej Jakubowski (FEIT / MO)
Andrzej Jakubowski,,
- The Institute of Microelectronics and Optoelectronics
, Lidia Łukasiak (FEIT / MO)
Lidia Łukasiak,,
- The Institute of Microelectronics and Optoelectronics
, Takuya Takeuchi
Takuya Takeuchi,,
-
, Kenji Ishikawa
Kenji Ishikawa,,
-
, Makoto Sekine
Makoto Sekine,,
-
, Masaru Hori
Masaru Hori,,
-
Pages173-174
Book Kisiel Ryszard (eds.): XI Konferencja Naukowa Technologia Elektronowa, ELTE '2013, 2013, ul. Koszykowa 75, 00-662 Warszawa, Instytut Mikroelektroniki i Optoelektroniki, ISBN 978-83-64102-00-4, 476 p.
URL http://elte.imio.pw.edu.pl/files/program_szczegolowy_elte2013.pdf
Languagepl polski
Score (nominal)15
ScoreMinisterial score = 10.0, 25-09-2019, BookChapterMatConfByIndicator
Ministerial score (2013-2016) = 15.0, 25-09-2019, BookChapterMatConfByIndicator
Citation count*
Cite
Share Share

Get link to the record


* presented citation count is obtained through Internet information analysis and it is close to the number calculated by the Publish or Perish system.
Back
Confirmation
Are you sure?