Charakteryzacja strukturalna i elektryczna warstw tlenku hafnu (HfOx) wytwarzanego metoda rozpylania magnetronowego

Magdalena Szymańska , Adrian Krysiński Krysiński , Marcin Grobelny , Ewa Szmidt , Piotr Wysokiński , Piotr Firek , Robert Paweł Mroczyński

Abstract

Celem niniejszej pracy było porównanie właściwości strukturalnych i elektro-fizycznych warstw HfOx wytwarzanego metodą reaktywnego rozpylania magnetronowego. Dwutlenek hafnu charakteryzowany było za pomocą: elipsometrii spektroskopowej, mikroskopii sił atomowych oraz metodą dyfrakcji promieniowania rentgenowskiego. Pomiary elektryczne kondensatorów MOS pozwoliły na określenie właściwości HfOx oraz jakości interfejsu krzemowy półprzewodnik/dielektryk.
Author Magdalena Szymańska (FACME)
Magdalena Szymańska,,
- Faculty of Automotive and Construction Machinery Engineering
, Adrian Krysiński Krysiński
Adrian Krysiński Krysiński,,
-
, Marcin Grobelny
Marcin Grobelny,,
-
, Ewa Szmidt
Ewa Szmidt,,
-
, Piotr Wysokiński (FEIT / MO)
Piotr Wysokiński,,
- The Institute of Microelectronics and Optoelectronics
, Piotr Firek (FEIT / MO)
Piotr Firek,,
- The Institute of Microelectronics and Optoelectronics
, Robert Paweł Mroczyński (FEIT / MO)
Robert Paweł Mroczyński,,
- The Institute of Microelectronics and Optoelectronics
Pages161-162
Book Kisiel Ryszard (eds.): XI Konferencja Naukowa Technologia Elektronowa, ELTE '2013, 2013, ul. Koszykowa 75, 00-662 Warszawa, Instytut Mikroelektroniki i Optoelektroniki, ISBN 978-83-64102-00-4, 476 p.
URL http://elte.imio.pw.edu.pl/files/program_szczegolowy_elte2013.pdf
Languagepl polski
Score (nominal)15
ScoreMinisterial score = 10.0, 25-09-2019, BookChapterMatConfByIndicator
Ministerial score (2013-2016) = 15.0, 25-09-2019, BookChapterMatConfByIndicator
Citation count*
Cite
Share Share

Get link to the record


* presented citation count is obtained through Internet information analysis and it is close to the number calculated by the Publish or Perish system.
Back
Confirmation
Are you sure?