Wytwarzanie i charakteryzacja cienkich warstw tlenku hafnu dla zastosowań w technologii MOSFET w węgliku krzemu

A. Taube , Katarzyna Korwin-Mikke , Tomasz Gutt , Tomasz Małachowski , Iwona Pasternak , Marek Wzorek , Adam Łaszcz , Mariusz Płuska , Witold Rzodkiewicz , Anna Piotrowska , Sylwia Gierałtowska , Mariusz Sochacki , Robert Paweł Mroczyński , Elżbieta Dynowska , Jan Szmidt

Abstract

n/a
Author A. Taube - Institute of Electron Technology (ITE)
A. Taube,,
-
, Katarzyna Korwin-Mikke
Katarzyna Korwin-Mikke,,
-
, Tomasz Gutt
Tomasz Gutt,,
-
, Tomasz Małachowski
Tomasz Małachowski,,
-
, Iwona Pasternak
Iwona Pasternak,,
-
, Marek Wzorek
Marek Wzorek,,
-
, Adam Łaszcz
Adam Łaszcz,,
-
, Mariusz Płuska
Mariusz Płuska,,
-
, Witold Rzodkiewicz
Witold Rzodkiewicz,,
-
, Anna Piotrowska
Anna Piotrowska,,
-
et al.`
Journal seriesElektronika - konstrukcje, technologie, zastosowania, ISSN 0033-2089, [], (B 6 pkt)
Issue year2011
Vol52
No9
Pages117-120
URL http://www.sigma-not.pl
Languagepl polski
Score (nominal)6
Score sourcejournalList
Publication indicators GS Citations = 1.0
Citation count*1 (2020-02-06)
Cite
Share Share

Get link to the record


* presented citation count is obtained through Internet information analysis and it is close to the number calculated by the Publish or Perish system.
Back
Confirmation
Are you sure?